高灵敏度小面积XPS能谱分析

　　高性能深度剖析-可进行表面与界面、三维成分深度分布分析

　　采用VGzl的快速平行角分辨XPS技术， 无需倾斜样品台就可在样品上原位同时快速获得多个角度(zei多96个角度)的角分辨XPS的信息,  利用该项新技术实现了对超薄薄膜( < 10 nm  厚)的厚度均匀性及元素和化学态的快速分析。对大尺寸半导体芯片和微电子器件等领域的研究非常方便和有效。

　　先进的微聚焦单色化X-射线源，X-射线束斑可在15μm至400μm范围调节

　　分析微区可小于15μm。

　　标准主机包含小面积XPS分析(15μm至400μm范围), 深度剖析、XPS Mapping 等项功能。

　　独特的样品定位系统，可直观准确地确定分析区，特别方便进行微区XPS分析

　　新型高效中和枪，可自动中和电子或离子，使得绝缘样品分析简单方便

　　先进的离子枪- 可快速刻蚀，具有良好的低能量性能。

　　全自动五轴样品台，可计算机控制进行多点、多样品的自动样品分析

　　仪器操作非常简单方便，易于使用，快速分析

　　灵活的样品操纵能力-可一次送入多个样品，或大尺寸样品(70 x 70 x 25 mm， or 100 mm wafer)

　　具备多种表面分析功能的能力， 系统可装配选件如双阳极X-射线源(用于大面积XPS分析)、场发射AUGER电子枪(AES/SAM)和  UV源(UPS)，样品加热/冷却等制样装