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新一代的高分辨X射线衍射仪
新一代的 X'Pert³ MRD 和的 X'Pert³ MRD XL 将延续帕纳科高分辨衍射仪（MRD平台）长期成功的历史。新平台可靠性的增强及性能的改进提高了分析能力，同时，增加了对X射线散射研究的能力。
• 先进材料科学
• 科学和工业薄膜技术
• 半导体过程开发中的计量表征
凭借100×100 mm (X’Pert³ MRD) 或 200×200 mm (X’Pert³ MRD XL) 的全尺寸Mapping，两套系统均可以处理同样宽泛的应用领域。
仪器简介：
X'Pert PRO MRD/XL是高级半导体材料的标准装备，用于： 高级材料科学和纳米技术，半导体材料研究和生产质量控制，可以适用各种应用，尤其适合薄膜分析，例如： 摇摆曲线分析和倒易空间Mapping， 反射率和薄膜相分析，残余应力和织构分析， X'Pert PRO MRD/ XL 满足半导体、LED、薄膜和高级工业材料的所有高分辨XRD分析需要。XL可以满足直径达 300 mm的晶片分析，并有精密的自动晶片装载选择；XL成为薄膜生产发展的先进的分析手段，LED的业界标准。
可以适用各种应用，尤其适合薄膜分析，例如：
· 振动曲线分析和交互空间图
· 反射仪和薄膜相分析
· 残余应力和织构分析
同已经证明的标准版本系统一样，还有许多专门的版本：
· X'Pert PRO MRD平面衍射系统，可以测量与样品表面垂直的晶格衍射
· X'Pert PRO Extended MRD 允许装备 X射线镜像和在线高分辨单色器，增强入射光束的强度。
· X'Pert PRO MRD XL 满足半导体，薄膜和高级工业材料的所有高分辨XRD分析需要。
技术参数：
1、功率：3kW
2、测角仪重现性：0.0001度
3、测角仪类型：T-2T
4、五维样品台
参考成交价格：