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| 项目 | 说明 | |
|---|---|---|
| 放电 | 类型 | 磁控二极管放电型(电场垂直于磁场) |
| 电极组成 | 反向平行盘(嵌入磁铁) | |
| 电压 | zei大 0.4 kV DC(直流可变) | |
| 电流 | zei大 40 mA DC | |
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喷镀速率 *1(zei大) [条件] 压力：7 Pa 放电电流：40 mA 标靶与样品表面之间的距离：20 mm | Pt 靶(选配件) | 15 nm/min |
| Pt-Pd 靶(选配件) | 20 nm/min | |
| Au 靶(选配件) | 35 nm/min | |
| Au-Pd 靶(选配件) | 25 nm/min | |
| 样品尺寸 | zei大直径 | φ60 mm |
| zei大高度 | 20 mm | |
| 机械泵 | 135/162 l/min (50/60Hz) | |
| 靶材*2 | Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4) | |
| 电源要求 | 单相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-针插头线缆(3 m) | |
| 尺寸 | 宽度 | 450 mm |
| 长度 | 391 mm | |
| 高度 | 390 mm | |
| 重量 |
主机：约 25 kg 机械泵：约 28 kg | |
*1： 喷镀速率仅供参考
*2： 主机内不包括靶材。请从选项中选择(铂，铂-钯，金，金-钯)。