返回 Inspire红外原子力显... 返回 Inspire红外原子力显... 
zei高分辨率的纳米级化学和性质成像
Bruker Inspire系统在常规AFM成像速度下可获得纳米级的红外吸收和反射图像，不受间接手工操作的逼近的限制，或为用户增加使用的繁琐。该系统实时地将原子级的纳米力学成像与分辨率达10纳米的红外sSNOM 时空光谱成像以及独一无二的纳米电学测量相关联。
简而言之，Inspire重新定义了原子力显微镜的应用。
Inspire 的出现，第一次将zei高分辨率纳米尺度下的化学和性质成像与zei先进的AFM技术和无与伦比的AFM性能结合：
采用直接光学逼近方法获得zei高分辨率的纳米化学性质表征和等离子基元效应
布鲁克公司独有的PeakForce Tapping技术可提供zei为精准的定量纳米机械性质的成像
全新的PeakForce IR技术可以实现以往技术难以实现的纳米化学性质的成像
利用ScanAsyst自动优化图像和集成的sSNOM光学系统可快速的获得数据
卓越的成像技术——操作简单
Inspire 使用sSNOM直接光学的反射和吸收成像以获得zei高的空间分辨率和灵敏度的纳米化学信息。以往需多年的专业技术和数周的搭建时间获得的实验数据，Inspire的集成光学系统可以更快更简单的实现。PeakForce Tapping(峰值力轻敲)技术及智能成像模式保证了即使是初学者也可以在几分钟之内获得专家级的AFM成像质量。
PeakForce Tapping技术的强力支撑
布鲁克公司独有的PeakForce Tapping技术采用精确地控制每个像素下的力曲线，能够降低成像时的作用力，这样可以保护探针，同时zei高分辨率的形貌图和纳米尺度性质的AFM图像。 Inspire利用了布鲁克独有的PeakForce Tapping技术为红外散射近场光学显微镜(sSNOM)，提供了全新的方法，扩展了它在大量样品的纳米尺度的化学成像。PeakForce IR技术是一种通过交错sSNOM信号采集和PeakForce Tapping的反馈，在同一时间获得全部的组合信息的全新技术。
新材料的化学成像
PeakForce IR技术超越了传统的AFM，sSONM，或光热方法下实现的纳米级成像的范围。Inspire 还可以鉴定材料类型，以及检测灵敏度达单分子层级的膜厚变化。
红外纳米表征技术可以扩展至：
粉末和高分子刷等接触模式和轻敲模式都很难成功测量的样品
橡胶体的成分，金属材料，半导体材料，陶瓷和其他在光热方法下不能测量的材料
石墨烯等离子体，电子结构和化学修饰的样品
为新的发现直接提供相关联的信息
拥有PeakForce IR技术的Inspire通过具有所有优势的散射sSNOM技术提供的扫描探针的红外反射和吸收成像，使获得化学、材料和等离子基元的zei高空间分辨率的成像成为可能。该技术还可以与PeakForce QNM联用实时的进行定量纳米机械模量和粘附力的成像。与PeakForce IR的联用，PeakForce KPFM 实现了在10nm分辨率水平下的毫伏级的定量的功函数成像，PeakForce TUNA实现了即使在柔软和易碎样品上无法在接触模式下获得的导电图像。
生产力的新标准
PeakForce IR利用布鲁克独有的智能成像模式zl技术，通过自动成像优化，能够更简单、更快速获得一致的AFM图像。结合带有由光学场图引导的point-and- click光学校准的快速光路设置集成光学系统，使得实验准备时间减少到几分钟。高性能的AFM扫描器确保可以在扫描速率达10Hz时也获得高分辨率的红外成像。对于任何对散射sSNOM技术、纳米级石墨烯研究感兴趣的科学家，或者需要得到高分辨化学性质成像的研究者来说，拥有PeakForce IR技术的Inspire是您zei理想的选择。
参考成交价格：