AS 3685:1998
辉光放电质谱法(GD-MS)的建议程序和原则

Recommended procedures and principles of glow discharge mass spectrometry (GD-MS)


AS 3685:1998 中,可能用到以下仪器

 

HORIBA GD Profiler 2射频辉光放电光谱仪

HORIBA GD Profiler 2射频辉光放电光谱仪

HORIBA科学仪器事业部

 

Profiler HR 辉光放电光谱仪

Profiler HR 辉光放电光谱仪

HORIBA科学仪器事业部

 

GDS-850辉光放电光谱仪

GDS-850辉光放电光谱仪

美国力可公司

 

GD Profiler 2 GDS堀场HORIBA 应用于涂料

GD Profiler 2 GDS堀场HORIBA 应用于涂料

HORIBA科学仪器事业部

 

赛默飞ELEMENT GD Plus双聚焦辉光放电质谱仪

赛默飞ELEMENT GD Plus双聚焦辉光放电质谱仪

赛默飞世尔科技(中国)有限公司

 

辉光Element GD Plus™ GD-MS

辉光Element GD Plus™ GD-MS

赛默飞色谱与质谱分析

 

赛默飞Element GD Plus™ GD-MS

赛默飞Element GD Plus™ GD-MS

赛默飞色谱与质谱分析

 

AS 3685:1998

标准号
AS 3685:1998
发布单位
澳大利亚标准协会
替代标准
AS 3685:1998(R2016)
当前最新
AS 3685:1998(R2016)
 
 
辉光放电质谱法的操作指南和使用建议。给出的指南主要用于标准方法的开发和应用。在普通的日常操作中,它们的应用可能不太严格

AS 3685:1998相似标准


推荐

2022集成电路材料检测高端论坛—赛默飞与上海市电子化学品计量检测平台联合研讨会圆满召开

对光刻胶、湿电子化学品中未知物探索反应机理拓展将促进相关行业质量标准不断提升。赛默飞GD-MS专家王贇杰为在座专家详细介绍了GD-MS辉光放电质谱法使用特点应用领域。辉光放电质谱法采用固体直接进样技术,具有样品制备简单,背景低,测试高效等优点。...

701项有色金属、化工石化等行业标准将制修订

计划是根据工信部《2010年标准化工作要点》行业标准制修订工作总体安排,继下达2010年第一批2620项行业标准制修订计划后,编制完成第二批行业标准制修订计划,提出了标准项目的编制原则、重点具体要求。  ...

真空蒸馏分离—ICP-MS法测定高纯碲中9种杂质元素

目前,对于高纯碲中杂质测定相关报道有GFAAS(石墨炉原子吸收分光光度计)法[4],HG-AFS(氢化物原子荧光光度计)法[5,6],ICP-AES(电感耦合等离子发射光谱)法[7], ICP-MS(电感耦合等离子体质谱)法[8]GD-MS辉光放电质谱)法[9]等。...

实验室分析方法--无机质谱法

20世纪70~80年代,激光电离质谱法、四极杆电感耦合等离子体质谱法、双聚焦电感耦合等离子体质谱法辉光放电质谱法逐渐孕育、发展和成熟:与此同时,二次离子质谱法诞生、发展为固体物质表面、薄层进行单元素多元素痕量分析提供了有效方法,对研究固体物质深度特征元素表层横向分布(成像)具有特殊功能。...


AS 3685:1998 中可能用到的仪器设备





Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号