应用领域：电力，新能源，功能材料，电子/电器/半导体，航空/航天，纳米材料，高分子材料，生物质材料
资料类型：标准
方案摘要
一、紫外正性光刻胶简介：
正性光刻胶也称为正胶。正性光刻胶树脂是一种叫做线性酚醛树脂的酚醛甲醛，提供光刻胶的粘附性、化学抗蚀性，当没有溶解抑制剂存在时，线性酚醛树脂会溶解在显影液中，感光剂是光敏化合物，最常见的是重氮萘醌（DNQ）。在曝光前，DNQ是一种强烈的溶解抑制剂，降低树脂的溶解速度。在紫外曝光后，DNQ在光刻胶中化学分解，成为溶解度增强剂，大幅提高显影液中的溶解度因子至100或者更高。这种曝光反应会在DNQ中产生羧酸，它在显影液中溶解度很高。正性光刻胶具有很好的对比度，所以生成的图形具有良好的分辨率。
二、紫外正性光刻胶产品清单：
| 品牌 | 产地 | 型号 | 厚度 | 耐热温度 | 应用 |
| Futurrex | 美国 | PR1-500A | 0.4μm～0.9μm | 耐热温度=110 ℃ | 湿刻、反应离子束刻蚀、 离子植入、电镀 |
| PR1-1000A | 0.7μm～2.0μm | ||||
| PR1-1500A | 1.3μm～3.0μm | ||||
| PR1-2000A | 1.7μm~4.0μm | ||||
| PR1-4000A | 3.7μm~10.0μm | ||||
| PR1-12000A | 10.0μm~25.0μm | ||||
| Micro Resist | 德国 | ma-P 1200系列 | 0.5～50μm胶厚 | 非常适合作为刻蚀掩模抗干刻、湿刻性能； 优异的电镀性能（酸和碱性镀液中*的稳定性）光刻胶图案良好的热稳定性； 碱性水溶液下显影；宽带、g或i线曝光； |
