屹东YP-20等离子清洗机主要用于样品清洗或真空腔体的清洗。用途非常广泛，其可搭的配拓展设备包括但不限于：SEM、FIB、NanoProbe、TEM及其他各类真空腔体。

核心优势

• 新型电感耦合技术(ICP)产生等离子体,粒子密度远高于传统的电容耦合技术(CCP)

• 产生的高浓度氧自由基可高效去除样品表面碳氢污染物

• “DOWNSTREAM”清洗方式对样品无损伤,表面原始形貌被完整保持

• 工作气压范围：0.01-500Pa，不破坏被清洗腔室的高真空

• 集成式软件控制，一键点击清洗，无需用户过多操作

应用案例

• 硅片样品

  清洗前：中心区域有明显积碳	清洗后：积碳被清洗干净

用户界面

• 样品室和样品均可被清洗

• 用户友好型操作界面，内置不同种类样品常用清洗设置

• 可预设清洗流程，远程操控

• 直接安装于高真空腔室的接口上无需特殊固定工具

性能参数