产品简介
基质辅助脉冲激光蒸发（MAPLE）是脉冲激光沉积（PLD）的一种变体。这是NRL集团引入的新技术，旨在促进某些功能有机材料的薄膜沉积。
在传统的UV（5-6eV）PLD技术中，光化学反应可能会破坏有机分子和聚合物等的功能。但在MAPLE中，通过将待沉积的有机物（或聚合物）与吸收激光波长的溶剂（基质）混合来制备特殊的靶。在沉积条件下的高蒸气压是基质的先决条件。然后用液氮冷却液体目标物，使其冻结为固体。激光辐射主要被目标的高挥发性、冷冻的溶剂（基质）分子吸收，这些分子随后从固体目标中脱离，捕获和带走感兴趣的有机分子。在它们向基片传输的过程中，高挥发性的基质分子被抽走，将有机分子输送到基片上沉积薄膜。这种技术成功弥补了传统PLD的缺陷。


产品特点
- 独立的MAPLEPLD系统
- 可用于有机和聚合物薄膜的沉积
- 在同一室的附加沉积源（可选）：脉冲电子沉积（PED）、射频/直流溅射和直流离子源
- 负载锁定基底阶段
- 与XPS分析系统集成，晶片就地从PLD系统转移到分析系统


应用领域
脉冲激光沉积（PLD）是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材，生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的独特之处在于能量源（脉冲激光）位于真空室的外部。这意味着，在材料合成时，工作压力的动态范围很宽，达到10-10Torr~100Torr。通过控制镀膜压力和温度，可以合成一系列具有独特功能的纳米结构和纳米颗粒。此外，PLD是一种“数字”技术，在纳米尺度上进行工艺控制。


技术参数
1. PLD真空室尺寸：12" / 18”直径（Pioneer120-Advanced / Pioneer180Models）
2. 衬底尺寸：最大直径2“和/或多种1厘米x1厘米的样品
3. 衬底加热：最高500℃，拥有可编程的加热器
4. 基底旋转：20RPM。软件控制
5. 目标阶段：液氮冷却；单目标阶段为标准；多个目标（可选）
6. 真空装夹：衬底负载制动
7. 工业废气：按要求处理气体。50-100SCCMmfc电池
8. 软件：Windows7 / Labview2013