PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200 Pro（PICOSUN™ALDR-200S Pro）

原子层沉积系统（ALDP-200）

名称：原子层沉积系统

产地：芬兰

Picosun简介Picosun是一家全球公司，

Picosun的总部位于芬兰的Espoo，

其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。

PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计，

并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强

其客户包括zui大的电子制造商，

小型的创新型挑战者以及全球ling先的大学。

Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。

PICOSUN®研发工具具有独特的内置可扩展性，

可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，

而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，

从而引ling行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。

PICOSUN™P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、

真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了zui大的产出效率，

并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性，

甚至能完全满足具有zui严格要求的半导体行业标准。

PICOSUN™P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本，

系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、

工艺故障的排除，我们为客户提供专业的售后服务Picosupport™。

根据用户的需求，确保每时每（24/7/365）

快速提供全面的解决方案。在购买之前，

我们提供做样服务，确保系统具有zui好的性能，

完全满足您的需求。

技术指标

衬底尺寸和类型50–200mm/单片

156mmx156mm太阳能硅片

150mmx150mm显示面板

工艺温度50-500°C,可选更高温度

基片传送选件气动升降（手动装载）

半自动装载，用PICOPLATFORM™200集群系统实现25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现

标准SEMIS2认证（认证中）

前驱体液态,固态,气态,臭氧源,等离子体（zui多4路气体）：

前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务

6根独立源管线，zui多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线）

重量790kg

尺寸(WxHxD)160cmx80cmx240cm

可选件集群工具,PICOFLOW™扩散增强器,集成椭偏仪,QCM,RGA,N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。

验收标准

标准设备验收标准为Al2O3工艺，其他工艺可具体协商：

其他工艺、应用具体验收标准如：

--不均匀性

--颗粒物含量

--重金属污染

--电学性能

应用领域PICOSUN™200mm生产线上的产品是200mm以下晶圆的自动化、

高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™P系列ProALD设备。

该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™200真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。

为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑，高效的设计。

集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，保证了快速简便的维护和zui短的停机时间。

PICOSUN™P系列Pro工具保证了zui大产能以及zui节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。

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