PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200 Pro（PICOSUN™ALDR-200S Pro）

原子层沉积系统（ALDP-200）

名称：原子层沉积系统

产地：芬兰

Picosun简介

Picosun是一家全球公司，总部位于芬兰的Espoo，生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。

PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计，并不断发展以提高效率。Picosun适应性强，客户包括最大的电子制造商，小型的创新型挑战者以及全球领先的大学。Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN®研发工具具有独特的内置可扩展性，确保研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案，从而引领行业发展时，Picosun是您的合作伙伴。

PICOSUN™P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。

我们全自动化、真空集群与产线兼容的P系列ALD确保了最大的产出效率，并且具有世界级的工艺纯度和薄膜均匀性，甚至能完全满足具有最严格要求的半导体行业标准。

PICOSUN™P系列ALD高效紧凑的设计节约了昂贵的场地成本，系统的易维护性减少了停工期。对于系统的维护、工艺故障的排除，我们为客户提供专业的售后服务Picosupport™。根据用户的需求，确保每时每刻（24/7/365）快速提供全面的解决方案。在购买之前，我们提供做样服务，确保系统具有最好的性能，完全满足您的需求。

技术指标

衬底尺寸和类型：50–200mm/单片156mmx156mm太阳能硅片150mmx150mm显示面板

工艺温度：50-500°C,可选更高温度

基片传送选件：气动升降（手动装载）半自动装载，用PICOPLATFORM™200集群系统实现25片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现标准SEMIS2认证（认证中）

前驱体：液态,固态,气态,臭氧源,等离子体（最多4路气体）：前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务。6根独立源管线，最多加载12个前驱体源（加上Plasma管路，共7根独立源管线）

重量：790kg

尺寸(WxHxD)：160cmx80cmx240cm

可选件：集群工具,PICOFLOW™扩散增强器,集成椭偏仪,QCM,RGA,N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。

验收标准：标准设备验收标准为Al2O3工艺，其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如：--不均匀性--颗粒物含量--重金属污染--电学性能

应用领域：

PICOSUN™200mm生产线上的产品是200mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™P系列ProALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™200真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑，高效的设计。集成的专业机柜，装载着前驱体和电子元件，保证了快速简便的维护和最短的停机时间。PICOSUN™P系列Pro工具保证了最大产能以及最节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量，并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。咨询******微信同号）