新产品OmniGISII是一套单端口气体源注入系统(GIS)，可用于SEM和FIB中构建纳米结构，具有前所未有的精度、速度和可用性。气体注入系统(GIS)可以在扫描电镜或聚焦离子束样品室中直接引入可控制的流动气体方案，用于材料表面的刻蚀或沉积。该系统适用于样品制备、纳米焊接以及直写式光刻技术，可实现无掩模纳米图案。OmniGISII是牛津仪器的第二代气体注入系统，在控制水平和准确性方面具有前所未见的高度。它可以自动识别气体源并快速进行气体源更换，同时可以安装多种气体源。设备采用“流通式”载体的方法，能促进高效元素传送并快速处理，并且压力反馈控制会自动调整到大范围真空室压力，以实现高压力下的快速处理或低压力下的高分辨率纳米图案成形。