CIF推出了全新一代CPC系列桌面型的等离子体清洗设备，可以进行可中试生产，并模拟生产条件。这款设备几乎包含了等离子体清洗设备的所有功能。它具有较大的腔体尺寸和样品处理面积，成本低，性价比高，易于维护，处理速度快且高效，特别适合于大学、科研院所和光电企业的实验室小批量中试生产。产品特点包括：可以模拟生产条件，便于小批量中试生产；桌面型，占用空间小；性能稳定，操作简便，使用成本低，易于维护，性价比高；有效的处理面积大，可以处理8寸硅片去胶等应用；可以处理不同几何形状、表面不同粗糙程度的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等样品，进行清洗和改性。技术参数如下：型号CPC-10和CPC-10plus；舱体尺寸分别是D300xΦ215mm和D300xΦ215mm；舱体容积是10.8L和10.8L；射频电源分别是40KHz和13.56MHz；匹配器为自动匹配；射频功率分别是10-300W可调和10-150W可调；气体控制为双浮子流量计（标配）；最大处理尺寸为L215xW300mm；产品尺寸为L555xW480xH525mm；包装尺寸为L680xW605xH790mm；时间设定为1-99分59秒；真空泵抽速约8m3/h；气体稳定时间为1分钟；真空度为100pa以内；电源为AC220V50-60Hz。