CIF推出了一款全新一代的CPC系列桌面型等离子体清洗设备，可用于中试生产和模拟生产条件。该设备几乎拥有等离子体清洗设备的所有功能。具有较大的腔体尺寸和样品处理面积，使用成本低，性价比高，易于维护，处理快速高效，特别适合于大学、科研院所和光电企业实验室中的小批量中试生产。产品特点包括：可模拟生产条件，方便小批量中试生产；桌面型，占用空间小；性能稳定，操作简便，使用成本低，易于维护，性价比高；有效处理面积大，可处理8寸硅片去胶等应用；可处理不同几何形状、表面不同粗糙程度的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等样品，并进行清洗和改性。技术参数如下： 型号CPC-12；CPC-12plus；舱体尺寸H120xΦ370mm；H120xΦ370mm；舱体容积12.8L；12.8L；射频电源40KHz；13.56MHz；匹配器自动匹配；自动匹配；射频功率10-300W可调；10-300W可调；气体控制质量流量计（MFC）（标配单路，可选双路）；最大处理尺寸Φ370mm圆盘；产品尺寸L618xW520xH465mm；包装尺寸L750xW640xH570mm；时间设定1-99分59秒；真空泵抽速约8m3/h；气体稳定时间1分钟；真空度100pa以内；电源AC220V50-60Hz。