CIF推出的CPC系列生产型等离子清洗机适用于研发型客户和工业级客户，是一种等离子体表面处理设备。该设备配置丰富，真空腔体可分层，适合大多数生产场景。可用于等离子清洗、活化以及刻蚀等多种应用。设备稳定运行于严苛环境下，产品稳定，样品处理重复性好。

产品特点：

- PLC工控机控制整个清洗过程，实时参数状态直观显示。
- 整个清洗过程全自动进行。
- 处理高效均匀，效率高，工艺重复性好。
- 标配双路气体输送系统，可选多气路气体输送系统，气体分配均匀。可输入氧气、氩气、氮气、四氟化碳、氢气或混合气体等气体。
- 合理的结构设计，设备占用空间小。
- 可处理各种材质、形状、尺寸样品。
- 样品处理温度低，无热损伤和热氧化。
- 使用成本低、耗损小。
- 产品性能稳定，安装与维护简便方便。

技术参数：

- 型号: CPC-35
- 舱体尺寸: W320xH320xD350mm
- 舱体容积: 35L
- 有效尺寸: W300xD315mm
- 电极分布: 3-4层
- 射频电源: 13.56Mhz，0-300W（可选装40KHz，0-1000W）
- 匹配器: 自动匹配器
- 电流: 1.2A
- 时间设定: 1-99分59秒
- 气体稳定时间: 1分钟
- 真空度: 100pa以内
- 激发方式: 电容式
- 控制系统: 7寸PLC触摸屏控制
- 工艺气体: 2气路MFC（可选装3路）
- 真空泵抽速: 约16m3/h
- 电源: AC220V50-60Hz