RTP-1300四英寸快速退火炉(RTP)
价格:面议

RTP-1300四英寸快速退火炉(RTP)

产品属性

  • 品牌Ecopia
  • 产地韩国
  • 型号 RTP-1300
  • 关注度24
  • 信息完整度
  • 供应商性质总代理
  • 产地类别进口
关闭
产品描述

品牌:Ecopia Corp.

型号:RTP-1300,RTP-1600;


RTP-1300, RTP-1600为Ecopia进口真空快速退火炉,仪器带有控制软件,为台式设计。

RT-1300可以退火100mmX100mm尺寸的样品,RTP-1600可以退火150mmX150mm尺寸的样品。


技术规格:

- 加热方式:红外卤素钨灯,1.2KW/支;
- 卤素红外灯数量:12支,或18支;

- 最快升温速率:100℃/秒;

- 最快降温速率:60秒(1000℃ → 400℃);

- 最高温度:1200℃;

- 温度精度:+/-1℃

- 最大样品尺寸:100 X 100mm, 或150mm X 150mm;

- 退火环境:真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢气等);

- 真空泵及极限压力:机械泵,10-3Torr水平(选配);

- 电压:220 V,单相或三相;

- 仪器尺寸:500 X 400 X 500mm (W X D X H);

- 质量:净重60Kg;

仪器特点:

- 可在真空/不同气氛/空气不同环境下,对样品进行快速热处理;

- 温控精度高;

- 适合高校或研究所科研使用;

- 带有RTP控制软件;

- 紧凑的台式设计;

- 仪器操作方便,样片装取容易;

- 价格合理,高性价比;

应用领域:

- 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

- 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

- 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

- 硅化 (Silicidation);

- 扩散 (Diffusion);

- 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);

- 离子注入后退火 (Implant Annealing);

- 电极合金化 (Contact Alloying);

- 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);

- 合金熔点分析;

- 薄膜沉积;

等等…

RTP-1300快速退火炉参考用户:

北京师范大学、北京理工大学、昆明理工大学、中国科大、东南大学、西安交通大学、陕西师大、渤海大学、中科院苏州纳米所、国电光伏、苏州新磊等...


上海载德半导体技术有限公司

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