洁净度100级、氧浓度低于20ppm的气氛炉，主要应用于固化半导体晶圆等。

特点                            

• 最高工作温度360℃和500℃。

• 采用耐热高性能高效过滤器，可在洁净的环境下进行高温烘烤。

• 高气密性的压力箱构造，氧浓度到达时间短，N2 消耗量极低。

• 磁密封保持高气密性，采用水冷机构保护密封部件免受热量影响。

• 可实现快速升温和降温，升降温速率可调节。

• 标准装备有废液回收装置，对气体进行冷却回收。

安全性                            

• 门检测开关

• 温度过升防止器

• 氧浓度异常安全装置

• 氮气压力检测

• 氮气流量检测

• 冷却水流量检测

• 漏水传感器

• 过电流漏电漏电保护开关

技术规格