微米划痕仪-美国NANOVEA
简介：
美国NANOVEA公司是一家全球公认的划痕测试仪的领航者，生产的微米划痕仪是目前国际上用在科学研究和工业领域zei先进的设备。
仪器应用：
划痕仪主要用于界定涂层薄膜与基底的结合强度与薄膜的抗划痕强度，主要应用在：
1. 半导体技术(钝化层、镀金属、Bond Pads)；
2. 存储材料(磁盘的保护层、磁盘基底上的磁性涂层、CD的保护层)；
3. 光学组件(接触镜头、光纤、光学刮擦保护层)；
4. 金属蒸镀层；
5. 防磨损涂层(TiN, TiC, DLC, 切割工具)；
6. 药理学(药片、植入材料、生物组织)；
7. 工程学(油漆涂料、橡胶、触摸屏、MEMS)；
主要特点：
1. 完全符合ASTM D7187，D7027，D1624，C171，ISO 20502，ISO1518
2. 光学显微镜自动观察
3. 压电陶瓷反馈控制
4. 加载载荷与划痕深度的实时测量
5. 实时三维表面轮廓测量
技术参数：
1.划痕正向力zei小载荷：500mN
2.载荷分辨率：0.75mN
3.划痕正向力zei大载荷：40N
4.zei大摩擦力：40N
5.zei大划痕深度：300µm
6.zei大划痕长度：150mm
7.划痕速度：0-240mm/min