纳米力学测试系统—美国NANOVEA
简介：
美国NANOVEA公司是一家全球公认的微纳米力学测试系统的领航者，生产的微纳米力学测试系统是目前国际上用在科学研究和工业领域zei先进的设备。
主要应用：
半导体技术(钝化层、镀金属、Bond Pads)；存储材料(磁盘的保护层、磁盘基底上的磁性涂层、CD的保护层)；光学组件(接触镜头、光纤、光学刮擦保护层)；金属蒸镀层；防磨损涂层(TiN, TiC, DLC, 切割工具)；药理学(药片、植入材料、生物组织)；工程学(油漆涂料、橡胶、触摸屏、MEMS)等行业；
技术特点：
纳米压痕仪：
主要用于微纳米尺度薄膜材料的硬度与杨氏模量测试，测试结果通过力与压入深度的曲线计算得出，无需通过显微镜观察压痕面积。
•完全符合ISO14577、ASTME2546
•光学显微镜自动观察
•独特的热漂移控制技术
•可硬度、刚度、弹性模量、断裂刚度、失效点、应力－应变、蠕变性能等力学数据。
•适时测量载荷大小
•采用独立的载荷加载系统与高分辨率的电容深度传感器
•快速的压电陶瓷驱动的载荷反馈系统
•双标准校正：熔融石英与蓝宝石
技术参数：
• zei大加载载荷：400mN
• 载荷分辨率：30nN
• 可实现的zei小载荷：1.5µN
• 位移分辨率：0.003nm
• 可实现的自小位移：0.04nm
• 可实现的zei大位移：250µm
• 热飘逸<0.05nm/s(室温条件下)
• DMA模式：20HZ
纳米划痕仪：
1.划痕正向力zei小载荷：500mN
2.载荷分辨率：0.75mN
3.划痕正向力zei大载荷：40N
4.zei大摩擦力：40N
5.zei大划痕深度：300µm
6.zei大划痕长度：150mm
7.划痕速度：0-240mm/min