等离子体增强化学气相沉积系统CVD
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等离子体增强化学气相沉积系统CVD

产品属性

  • 品牌泽攸科技
  • 产地安徽
  • 型号等离子体增强化学气相沉积系统CVD
  • 关注度6
  • 信息完整度
  • 供应商性质生产商
  • 产地类别国产
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产品描述

多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统(CVD)是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术,主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离,促进化学反应在较低的温度下进行,从而在基片上沉积出所期望的薄膜。

    多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统(CVD)是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术,主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离,促进化学反应在较低的温度下进行,从而在基片上沉积出所期望的薄膜。

    目前项目团队自主研发的CVD设备可在多种衬底上(如金属、氧化物、半导体表面)直接生长以石墨烯为代表的各类新型二维材料,用于新材料、新器件的研发。工艺简单廉价,且具有传统半导体生长工艺的兼容性。

    等离子体增强化学气相沉积系统CVD等离子体增强化学气相沉积系统技术参数

    应用案例

      CVD应用——Graphene在任意衬底上的无催化生长

      CVD应用——外延Graphene/BN异质结与摩尔超晶格

      CVD应用——Graphene的各向异性刻蚀技术发展

      CVD应用——Graphene的各向异性刻蚀技术发展2

      CVD应用——MoS2的原位氧取代掺杂和相变调控

      CVD应用——MoS2的原位氧取代掺杂和相变调控2

      CVD应用——外延构筑各种MoS2范德华异质结

      CVD应用——二/四英寸连续单层MoS2 的取向外延生长

      CVD应用——二/四英寸连续单层MoS2 的取向外延生长2


    安徽泽攸科技有限公司

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