产地：广东； 品牌：原速科技
Exploiter E200P原子层沉积系统（粉末颗粒包裹反应腔）是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统，可在平面衬底、粉末颗粒表面、高深宽比结构及其他复杂三维结构上沉积薄膜。
原子层沉积系统 E200P广泛适用于纳米材料、微机电系统、催化剂、生物膜材料及光电材料等领域，其特点在于：
双反应腔：Φ200mm + 粉末颗粒包裹腔
6路进气口：3路前驱体源 + 3路反应气源
SUPERALD Exploiter原子层沉积Thermal-ALD
SUPERALD 原子层沉积 等离子增强系统 PEALD
SUPERALD 原子层沉积 手套箱集成系列
SUPERALD Exploiter原子层沉积粉体包裹系统 PA系列
SUPERALD Exploiter原子层沉积大尺寸沉积系统
SUPERALD Exploiter原子层沉积超高真空系列 UHV ALD
产品描述
