产品描述
Exploiter原子层沉积系统是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统，广泛适用于纳米材料、微机电系统、催化剂、生物膜材料及光电材料等领域。
系统优势
1.传输管路的优化设计，有效地避免管路堵塞及交叉污染问题
2.工业化级别标准集成：PLC+工控机+触摸屏
3.软件操作界面友好，可真正实现“一键沉积”
4.全方位可靠的安全互锁方案
5.实时监测镀膜工艺
技术指标
1.本底真空：＜5.0×10-3torr，高性能机械泵（可定制）
2.样品腔室：φ200mm；
3.前驱体源：2、4或6路
4.氧化/还原反应物：3路
5.沉积温度：室温-500℃（可定制）
6.前驱体管道温度：室温-120℃（可定制）
7.源瓶加热温度：室温-120℃（可定制）
应用领域
1 微电子：逻辑器件、碳纳米管、存储器件/材料、阻挡层
2 光学：光子晶体、表面等离激元、光学微腔、导电氧化物、其他光学器件
3 能源：锂电池、燃料电池、太阳能电池、超级电容器、表面钝化和敏化
4 催化：氧化物催化剂、负载型金属催化剂、颗粒和高深宽比结构
5 生物：生物薄膜和仿生、生物相容性涂层、生物检测电子器件、生物传感器
6 纳米技术：微纳机电系统、纳流体器件、磁隧道结器件、单分子传感器
材料种类
1 氧化物：Al2O3、TiO2、SiO2、HfO2、Ta2O5、ZrO2、ZnO、SnO2、La2O3、Lu2O3等
2 金属材料及合金：Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ru、Pt、Ag、Au等
3 二元/多元材料：AlN、HfON、LaAlO3、MnN、WN等
4 纳米层压材料：(Al2O3/ZrO2)n等
