通常情况下，离子束切割技术制备平整断面时，以片状为主来做离子束切割，以块状待加工面积较大时，采用旋转抛光的方式。徕卡三离子束切割仪EM TIC 3X制备平整面时，有其独特优势，离子枪为鞍型场枪，热量分散，加工样品平整面积大，对样品热损伤小。

在实际使用三离子束EM TIC 3X技术获取样品无应力平整断面时，粉末样品的剖面是常常会遇到的，根据离子束设备对样品的要求，完全可实现粉末样品的加工，如金属及氧化物粉体材料，无机粉体材料，高分子粉体材料以及复合粉体材料等，只需将适量粉体材料包埋为块体即可。通常为片状。

在包埋粉体类样品时，通常有三种方法，树脂包埋法，导电碳胶包埋法，刮片法，在此处介绍前两种方式，此二种方式简单易操作，且切出面积大，不仅可以用于扫描电镜，原子力显微镜等形貌分析，也可做能谱定性定量分析，EBSD的晶粒取向等分析。

对于树脂包埋法，制备所需准备为：树脂，包埋板，加热台，砂纸。大致流程如下：取适量样品成团聚状态放入包埋板中，树脂混合均匀后注入包埋板，在有样品的位置做局部的搅拌（样品若分散开则单位面积颗粒少，即加工后单位面积中颗粒剖面少），加热台加热即可固化，之后将待加工面磨抛出来即可，若想效果最佳，效率最高，则与徕卡精研一体机EM TXP配合最为完美，样品固定后，锯片切到颗粒最多位置，换抛光片由粗到细磨抛即可。

Leica EM ACE600是完美的多用途高真空薄膜沉积系统，设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的，细粒度的和导电的金属和碳涂层，用于最高分辨率分析。

性能与优点

Leica EM ACE600 高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。

适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统，是无污染的低温扫描电镜样本制备的理想解决方案。

完美重现的结果
运行全自动化过程，辅以参数和协议设置。集成的石英测量和自动化3轴载物台移动

容易清洗
可拆卸的门、卷帘、内部屏蔽、来源和载物台，确保制备高品质样本的环境清洁。

小巧紧凑
设计紧凑，占地面积小，节省实验室空间。

操作简便
直观的触摸屏，松推配合的连接器和免工具的目标变更，舒适的前门锁定。

自定义配置
配备了仪器，可满足您的具体需求。

低温镀膜
真空低温传输系统适应将室温镀膜机转换成低温镀膜机。样本能在低温下于受保护的环境中进行镀膜和传输。

Leica EM ACE600 可以配置如下镀膜方式:

. 金属溅射镀膜
. 碳丝蒸发镀膜
. 碳棒蒸发镀膜（带有热阻蒸发镀膜选配件）
. 电子束蒸发镀膜
. 辉光放电
. 连接VCT样品交换仓，与徕卡EM VCT配套实现冷冻镀膜，冷冻断裂，双复型，冷冻干燥和真空冷冻传输

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碳丝蒸发的新纪元
厚达40nm的碳膜可以被精确设定并准确获得，通过脉冲碳丝蒸发，结合连续膜厚监控（石英片膜厚控制），和独特的软件控制来实现。碳膜因此实现高度可重复性和均匀性。
得益于可拆卸式玻璃门，挡板和样品室屏蔽内壁，镀膜源和样品台，样品室内部清洁工作非常简便。

倾斜式镀膜源配合旋转样品台，可获得区域更大，更均匀的镀膜。根据实验需求，可以同时加装2种镀膜靶源。

内置膜厚监控系统，石英片置于样品台正中，可获得更加准确的镀膜结果。

三轴马达驱动样品台-无需破真空就可调整样品台高度角度。