多功能SIMS工具：高分析效率和全自动化的基准检测灵敏度

IMS 7f-Auto是我们获得成功的IMS xf二次离子质谱仪（SIMS）产品系列的新型号。该仪器旨在提高高精度元素和同位素分析的易用性和生产率，已针对玻璃、金属、陶瓷、硅基，III-V和II-VI族化合物器件、散装物料、薄膜等一系列颇具挑战性的应用进行改良，可充分满足行业对高效器件开发和过程控制的要求。

用于解决多种分析问题的关键分析功能
IMS 7f-Auto提供了具有高深度分辨率和高动态范围的深度剖析功能。高透射质谱仪与两种反应性高密度离子源（O₂⁺和Cs⁺）相结合，从而提供高溅射速率和极低的检出限。独特的光学设计可实现直接离子显微镜和扫描探针成像。 

提高自动化和作业效率
IMS 7f-Auto配有重新设计的同轴一次离子枪筒，可以更轻松、更快速地进行一次离子束调谐，并优化一次离子束流稳定性。新的自动化程序减少了由操作员引起的偏差并提高了易用性。带有自动装载/卸载样品架的电动储存室通过分析链和远程操作提高分析效率。 

在高分析效率下实现高再现性
借助新型电动储存室和样品转移，IMS 7f-Auto能够分析链式或远程模式下的多个样品。测量可以完全无人值守和自动化，具有高通量和可再现性。可实现很高的可再现性（RSD<0.5％）、很低的检出限、高测试效率和高生产率（工具可每天24小时使用，几乎无需操作员干预）。

                 看看IMS 7f-Auto能够做什么-

镀锌钢的氧深度剖析（SIMS）

IMS 7f-Auto提供独特的深度剖析和离子成像功能，可用于研究合金中的包裹体及偏析效应。

锡铜导线结构的小区域分析（SIMS）

凭借出色的成像能力，IMS 7f-Auto成为高级工程材料研发的首选工具：多晶样品扩散、表面成像分析……

深和浅注入物深度剖析（SIMS）

IMS 7f-Auto在半导体行业的掺杂物监测中得到广泛使用，并应用于不同的物种和材料系统。

杂质控制（SIMS）

动态SIMS是测量半导体中痕量杂质浓度的最高效的技术之一。

LED器件中的掺杂物监测（SIMS）

CAMECA SIMS仪器非常适用于研究不同层的组成并表征掺杂物和杂质中的元素分布，是新型LED器件研发和过程控制的最佳选择。

PV硅原料的纯度控制（SIMS）

IMS 7f-Auto是硅纯化工艺质量控制的首选工具，质量控制是确保硅基太阳能电池器件的高产量制造的前提条件。

核玻璃固化体蚀变机制（SIMS）

IMS 7f-Auto为低浓度元素和高精度同位素分析提供了出色的深度剖析能力，是分析核玻璃固化体的最佳工具。

核反应堆中的氦迁移（SIMS）

与通常用于分析核材料的其他技术相比，SIMS可提供更出色的灵敏度、更宽的动态范围及更高的深度分辨率。