TEM氮化硅/氧化硅薄膜窗口---TEM观察石墨烯的首选耗材

优点：
• 低应力的8, 15 , 50nm厚的氮化硅支撑膜：50nm厚的薄膜具有zei大的视野范围；8nm和15nm厚的无孔氮化硅薄膜适用于TEM超高分辨率的应用
• 200nm厚的低应力氮化硅支撑膜：坚固
• TEM断面成像应用的特殊窗口：适用于倾斜断层成像的0.5x1.5mm大窗口，倾斜度zei大可达75°
• 多窗口系列：2窗口，0.1x1.5mm；3x3系列，0.1x0.1mm
• 可应用于多种显微技术：良好的机械稳定性使得同一种薄膜可应用于TEM, SEM, EDX, XPS and AFM 。
• 薄膜和基底耐酸，不会被溶解：可以在酸性条件或常规条件下研究、制备样本
• 可应用于高温试验环境：zei高可达1000° C
• 可提供更对精确的分析，如样品中的碳含量，减少污染：可用于无碳环境中的TEM成像和分析
• 容易清洗：机械稳定性和化学稳定性使得薄膜很容易采用辉光放电或等离子清洗
• 良好的平整度：良好的纳米沉积基底和薄膜，无背景结构适合于SEM成像
• 超净加工，防止支撑膜上残留微粒：100级的超净间内包装
• 框架厚度：200 and 50µm ：200µm是标准的TEM支撑架；50µm是特殊的TEM支撑架
• 标准框架直径为3mm
• 同一批次的氮化硅薄膜窗具有相同的特性•

产品描述---尺寸规格：
• 薄膜厚度：8, 15 ,50nm：zei小的吸收，获得zei清晰的成像, 200nm：在不同的平台起到更好的支撑作用;
• 窗口大小：0.25x0.25mm, 0.5x0.5mm, 0.75x0.75mm, 1.0x1.0mm, 0.5x1.5mm；多窗口系列：9窗口0.1x0.1mm；2窗口，0.1x1.5mm.
大窗口可以得到更大的视野范围，例如：断层成像应用中提供更高的倾斜角. 多窗口系列可以在不同窗口中逐步增加样品;
• 超薄8nm薄膜的孔径大小: 支撑膜200nm，窗口大小 0.6 x 0.6mm ，宽25µm,长60µm
• 框架厚度：标准厚度为200µm，适用于标准的TEM支撑；厚度为50µm适用于特殊的TEM支撑架.
• 表面粗糙度: The RMS (Rq) is 0.65 +/- 0.06nm 平均粗糙度： (Ra) of 0.45 +/- 0.02nm;
• 框架直径: 标准尺寸为3mm
• 包装: 超净间包装，每盒10个

详细参数请咨询******