仪器简介：

膜厚仪适用于半导体，FPD，太阳能电池（ＡＲＣ）、纳米技术，电子材料及特殊薄膜等的膜厚及其相关光学参数的测量。

目前该产品已广泛应用于半导体、平板显示（ＴＦＴ－ＬＣＤ，ＯＬＥＤ），聚合物、化学材料、太阳能电池、纳米薄膜材料等的企业，研发实验室，高校研究所等。

技术参数：

－检测内容：薄膜厚度，ｎ，ｋ，反射率　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　                                 　－波长范围：３８０～１０００ｎｍ（紫外，近红外，红外可选）　　　　　　　　　　　　　　　　                             －样品尺寸：4"~12" ( 更大样品尺寸可订制）
－测量范围及检测膜层： 1Å~ 50㎛ （up to 10层）
－光斑尺寸： 40㎛/20㎛/10um、4㎛(多选)
－测量速度： <1sec./site
－重复性：+/-1A

 

主要特点：

－易于操作　＆　快速检测

－非接触式、非破坏

－高重复性

－可实时检测

－Ｘ－，Ｙ－，Ｚ－自动ｍａｐｐｉｎｇ（可选）

根据客户需要：

可增加自动聚焦、ｍａｐｐｉｎｇ、３Ｄ，透过率模块，微小光斑，订制各种尺寸样品台。。。。