描述：初期主要应用于半导体行业的特气检测，如毒性气体AsH₃、B₂H₆、PH₃等，强腐蚀性气体如如HCI、HF、CIF₃等，强氧化性气体如CIF₃、NF₃等。 HPR-80腐蚀性气体分析质谱仪非常适用于分析腐蚀性气体，HF，HCl，HBr和卤代烃气体工艺产生的反应产物。

仪器简介：
HPR-80(Quantitative Gas Analyser for Reactive / Corrosive Species)是专为活泼性、腐蚀性气体分析和半导体、真空过程研究而设计的仪器，快速、定量分析活泼性、腐蚀性气体混合物。

应用：
    · 等离子体/反应性离子蚀刻研究
    · CVD / PVD / MOCVD
    · 半导体晶片加工研究
    · 真空、等离子体过程
    · 活性物质定量分析
    · HF，HCl，HBr，CFC 研究


主要特点：
· 加热的电抛光波纹管，快速偶合连接器
· 可清除的，带粘性流QIC校正的进样口用于定量分析
· 高灵敏度至 5 ppb, 质量数可至2500 amu.
· 进样压力从 1 mtorr 至大气压
· 电容压力计，压力检测可不受分析物影响
· 稳定性好 (24h之上，小于峰高±0.5% )
· 软件 MASsoft 控制
· 矩阵反演，归一化及单峰参考

腐蚀性气体分析质谱仪 HPR-80（ Reactive/Corrosive Species Analyzer）是专为活泼性、腐蚀性气体分析和半导体、真空过程研究而设计的仪器，快速、定量分析活泼性、腐蚀性气体，如反应中间产物，HF, HCl, H2S, F2, AsH3, PH3 等强腐蚀性与半导体工艺气体。

20年前，Hiden在国际知名期刊《Physics Today》今日物理学杂志发布了HPR-80 腐蚀性气体分析质谱仪，初期主要应用于半导体行业的特气检测，如毒性气体AsH3、B2H6、PH3等，强腐蚀性气体如如HCI、HF、CIF3等，强氧化性气体如CIF3、NF3等。

20年来，Hiden在这一细分领域具有强大的产品力，针对不同程度的腐蚀气体分析，提供不同的解决方案。

HPR-80 腐蚀性气体分析质谱仪非常适用于分析腐蚀性气体，HF，HCl，HBr和卤代烃气体工艺产生的反应产物。

主要特点：

• 连接件电抛光工艺处理

• 取样压力： 1mTorr to 1000Torr

• 高灵敏度三级过滤四极杆

• 检测限可达 5 ppb

• QGA专业版定量分析软件