HPR-30真空过程气体分析系统(Process Gas Analyser)，适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。

应用：
   · CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
   · 真空涂覆/ 等离子刻蚀
   · 沉积溅射
   · 污染物研究
   · 基本压力辨别
   · 泄漏探测/ 实质泄漏/脱附分析
   · 除气/烘烤/泵效能
   · 反应室/过程气体污染物

特点：

·简洁的桌上型，移动推车或控制台架结构
·Direct re-entrant流孔板，差式泵，以达到最适宜的灵敏度

· 连续取样从10^-4mbar至1mbar.

· 高灵敏度（最优可至5ppb），质量数可选至1000amu

·软离子化技术，分析复杂有机物，或表观MS研究

· 稳定性好(24h之上，峰高变化小于±0.5%)

·MASsoft软件控制，或由局域网进行多个系统控制
·气动阀自动控制；出现电力不足或压力过大等不安全状况时可启用手动隔离装置
·自动、同时数据取得、分析，实时显示、报警

参数

·质量数范围：   1～200 amu(标准配置); 300、510、1000amu可选

·高灵敏度：     5ppb

·取样压力：     10^-4mbar～1mbar 标准配置，1Number~30Bar选配

·稳定性好：     24h以上，小于峰高的±0.5%

·过程控制开关

·信号输入、输出接口