半导体计量的两种最佳互补技术。

• WLI: 白光干涉测量是一种光学技术，它可以对非常宽的区域进行成像，速度非常快，满足高吞吐量测量。

• AFM: 原子力显微镜是一种扫描探针技术，即使对透明材料也能提供最精确的纳米级分辨率测量。

WLI应用需要比WLI 能力更高的分辨率和精度

• 先进的化学机械抛光计量和监测

• 先进封装

• 全掩模的热点和缺陷检测

• 晶圆级计量

AFM应用需要更大的区域和更高的吞吐量

• In-line 晶圆计量

• 长行程CMP轮廓表征

• 亚埃级表面粗糙度控制

• 晶圆检验与分析

NX-Hybrid WLI 功能

Park WLI系统

• Park WLI支持WLI和PSI模式（PSI模式由电动过滤器变换器 支持）

• 可用物镜放大倍数：2.5X 、10X、20X、50X、100X

• 两个物镜可由电动线性换镜器自动更换

WLI光学干涉测量

• 扫描 Mirau 物镜高度时，由干涉引起的光强变化可以计算每个像素处的样品表面高度

• 白光干涉测量 (WLI) 和相移干涉测量 (PSI) 是两种常用的表面表征技术

NX-Hybrid WLI 应用

热点检测和审查

热点快速调查和热点缺陷自动审查

• 可以通过比较参考和目标样品区域的图像来检测图案结构的热点

• WLI 的高速“热点检测”可以快速定位缺陷位置，以进行高分辨率 AFM 审查