Logitech LP50精密研磨抛光系统技术特点

【技术特点】-- Logitech LP50精密研磨抛光系统

根据每个工艺的要求，可以在工艺设置菜单中进行盘速的设置，设定值为0至70转每分。工艺时间也可以进行调节，可设定到zei多10小时，并且会在上边显示已用去的时间。因此没有必要一直在旁边监视仪器的运转，因为在设定时间后过程就会自动停止.

仪器拥有坚固的聚氨酯外壳，方便清洗，并有盛废液的可移除托盘，将废液导入到废料管中。这一坚固的现代化结构适用于多数严格的研磨抛光环境。另外，Logitech LP50精密研磨抛光系统还有一种防次氯酸钠抛光液的机型，可理想的用于需要进行化学机械抛光的工艺过程。

【技术特点对用户带来的好处】-- Logitech LP50精密研磨抛光系统

【典型应用举例】-- Logitech LP50精密研磨抛光系统