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精密研磨抛光系统特点：
1、完善的控制系统
在半导体、光电、光学以及地质等应用领域，Logitech PM5精密研磨抛光系统是值得信赖的选择，典型的应用包括：晶片背减、光纤及波导器件制备、激光棒抛光、MEMS等。无论是对何种高质量表面平整度控制的需求，PM5均能给予用户满意的处理效果。
研磨/抛光的所有功能，包括盘转速、摆臂设定、滴料速度，均显示在操作控制显示屏，通过操纵杆对操作控制显示屏的参数进行设定。
2、自动化功能增强
机器运行内置计时器，在无人看管时可以设定计时器，计时器时间设定范围0-10小时，在处理材料完成时机器自动停止（抛光状态下报警不停机），控制系统向操作员发出蜂鸣提醒。
为了进一步提高易用性，Logitech PM5精密研磨抛光系统部分配备真空管道，以联通真空装置，VS2真空系统单元独立放置，在提供真空系统同时具有过滤防污染的功能。可以看到，Logitech的全套备件配置使用为用户带来了足够大的加工灵活性。
Logitech PM5精密研磨抛光系统夹具具有在线监测功能，可实时显示样品处理的去除量，监测精度1um；为适应各种大小尺寸的样品处理，夹具对晶片作用压力可以连续调节，通过增加夹具压力块，压力调节范围zei大可达0.1 - 7Kg；夹具zei大处理样品尺寸4英寸。
3、直观的操作控制系统
快速、高效的研磨/抛光盘，便于拆卸，方便用户在不同的研磨过程之间的快速转换，以及研磨和抛光工艺的变换。这种灵活性使PM5成为实验室空间有限的情况下的首要选择。
Logitech PM5精密研磨抛光系统具有耐化学腐蚀的配置，适合在腐蚀性物质环境中使用，如砷化镓抛光中常常使用的Chemlox抛光液。耐腐蚀的设计保障了系统在酸碱工作环境中运行。
4、精准的滴料系统
磨料自动填料系统通过一个可调导料槽，确保精准的控制料液流从料桶滴入研磨盘或抛光盘。滴料的控制设计，具有很高的经济性，特别适合多样化研究使用。
此外，可拆卸的料液托盘导出废料，使其流入废料桶，从而保障设备安全稳定的长时间持续运行，同时减轻设备的清理工作。
5、完整的参数控制，确保结果一致
研磨/抛光的工艺过程中，盘的表面情况会在一定程度上反馈在样品表面，通过控制研磨盘的盘面型从而提高样品平整度；通过保持抛光盘的表面状态从而提高样品表面质量。
为获得zei佳结果，设备往复运动的速度和摆幅可以精确的控制样品处理效果，从而提高了结果的高重复性和高一致性。
参考成交价格：