【技术特点】-- 自动压力跟踪绝热量热仪（LowPhi ARC）

主要特点：

自动压力跟踪*：PHiTEC II具有独创的温度-压力双重快速跟踪功能，传统的ARC技术仅有单一的zei大速率20°C/min的温度跟踪功能，PHiTEC II不仅温度跟踪速率可以达200°C/min，同时具有200Bar/min（可选700Bar/min）的压力跟踪能力，使其不仅可用于高能材料反应动力学研究，还可用于大型储运及生产等工艺体系的泄爆口（VENT SIZING）设计等更广泛的领域。
PHiTECH II可以使用低φ值（≤1.05）样品池，zei大容量可达110毫升，绝热特性及检测数据更加接近大型反应体系的真实工况，并且全自动压力跟踪功能可以确保内外压平衡，从而有效地保证了操作安全性。
普通ARC不具备压力跟踪功能，如使用低φ样品池（极限值1.1），zei大操作压力必须降低，但因反应规模比标准样品池大很多，安全性将更加令人担忧。


功能兼容性：PHiTEC II向下兼容PHiTEC I 、TSu（快速筛选量热仪），可完成从材料筛选、精确比例放大、反应器及储运条件设计等一系列工作中必要的安全评估工作。
*注：PHiTEC I/II可测试18650等标准规格电池，如须测试大体积的动力电池组等样品，可选用HEL公司的BTC专用大体积电池绝热量热仪。

其余功能请参考PHITEC I

【技术特点对用户带来的好处】-- 自动压力跟踪绝热量热仪（LowPhi ARC）

【典型应用举例】-- 自动压力跟踪绝热量热仪（LowPhi ARC）