ALD原子层沉积设备-SVT参数指标

NorthStar ALD系统介绍：
NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法，包括热淀积以及能量增强淀积。
每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔，使其应用范围极为广泛。
设备的快速舱口盖或装载室（可选件）使样品操作快捷方便。
NorthStar ALD系统不但能跟其他设备连接起来，还能连接多种测量仪器。
原位测量工具以及RoboALD软件自动化系统提高了工艺的再现性。
可以直接升级至超高真空
提供工艺演示以及工艺培训服务
为潜在客户提供免费样品测试。

应用领域：
High-K电介质
纳米涂层
MEMS
光子晶体
扩散阻挡层
器件封装
表面改性层

技术参数：
为科研客户量身打造zei先进的原子层沉积系统。
提供4“、6“、8“、12“等多种尺寸的样品平台。
针对客户的需求，提供多种输气设计。
---可控真空度: 1 Torr to UHV
---气道加热
---气体快速进出
---样品尺寸: 4in standard, optional 12in
---基底加热: up to 300 ℃, optional higher temp