配置

单激光源

双激光源

测量模式

单波长测量

单波长和双波长测量

精度
  (定义为对单一像素点做30次测量后取时域标准差)

1.0 nm ¹

1.0 / 5.0 nm ¹ *

垂直分辨率
  (定义为两倍于精度)

2.0 nm ¹

2.0 / 10.0 nm ¹ *

可重复性
  (as demonstrated by taking the one sigma Rq value of 30 repeatability   measurements on SiC reference mirror)

0.02 nm ¹

0.02 / 0.05 nm ¹ *

动态可测垂直高度(无须扫描情况下)

对于连续结构zei高可达 500 μm

对于连续结构zei高可达 500 μm

动态可测台阶高度
  (由测量波长和光源决定)

·           up to 1 μm ¹

·           up to 3.5 μm ²

·           up to 7 μm ¹

·           up to 22 μm ²