SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机应用:
带图案或不带图案的掩模版和晶圆片
Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗
CMP处理后的晶圆片清洗
晶圆框架上的切粒芯片清洗
等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗
带保护膜的分划版清洗
掩模版空白部位或接触部位清洗
X射线及极紫外掩模版清洗
光学镜头清洗
ITO涂覆的显示面板清洗
兆声辅助的剥离工艺
SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机的特点:
支持12”直径的圆片或9”x9”方片
独立系统
无损兆声,试剂,毛刷清洗及旋转甩干
微处理机自动控制
化学试剂滴胶单元
溶剂与酸分离排废
热氮
30”D x 26”W 的占地面积
SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机选配项:
掩模板或晶圆片夹具
臭氧清洗
PVA软毛刷清洗
高压DI清洗
氮气离子发生器