【技术特点】-- LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统

LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统应用：

• 光刻胶去除/剥离

• 硅片

• 蓝宝石片

• 圆框架上的芯片

• 显示面板

• ITO涂覆的显示屏

• 带保护膜的分划版

• 掩模版空白部位

• 掩模版接触部位

• 带图案/不带图案的掩模版

LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统的特点：

• 支持450mm直径的圆片或15”x15”方片

• 带兆声、DI、刷子、热DI、高压DI、热氮、化学试剂滴胶臂的大腔体

• 带化学试剂滴胶的刷子转速可调节

• 带LABVIEW软件的PC全自动控制

• 触摸屏用户界面

• 手动上下载片

• 安全互锁及警报装置

• 30”D x 26”W 的占地面积

LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统选配项：

• 化学试剂传输模块

• Piranha溶液清洗

• 臭氧化DI水（20ppm的O3）

• 氢化的DI水

• 高压DI水

• 热DI水

• 溶剂和酸分离排放

• IR红外加热

• DI水循环机

• 耐火立柜

• 机械手上下载片，带EFEM以及SMIF界面

【技术特点对用户带来的好处】-- LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统

【典型应用举例】-- LSC-4000 (D) 兆声大基片湿法去胶系统