VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪技术特点

【技术特点】-- VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

1、配置两个靶枪，一个为配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个为配套直流电源用于导电类材料的溅射镀膜。

2、可制备多种薄膜，应用广泛。

3、体积小，操作简便。

【技术特点对用户带来的好处】-- VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪

【典型应用举例】-- VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪