预处理腔:衬底旋转、倾斜(3D);干泵+ 分子泵; 真空度10-8 T
蒸发镀膜腔:电子枪6-15KW;
样品台:可加载4英寸衬底;
衬底可加热到800℃
衬底旋转、倾斜,
倾斜精度和重复性优于0.1°(可升级)
真空泵系统:干泵 + 低温泵;
真空度10-10T或10-11T
膜厚控制仪:频率分辨率10-4Hz或更高;
速率分辨率10-3nm/s;
厚度分辨率10-2nm
残余气体分析仪
反应蒸镀:氧气气路+MFC
氧化腔体:静态/动态氧化
臭氧发生器/原子氧发生源/辉光放电;
卤素灯加热至zei高200℃
残余气体分析仪
分子泵 + 干泵;真空度<10-8 T
全自动软件包,支持半自动和手动模式,支持远程网络操作和维护。
典型用户:耶鲁大学、日本NTT、中科院物理所、中科大、南大、南方科技大学
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