PLASSYS 超高真空多腔...

PLASSYS 超高真空多腔体电子束蒸镀系统参数指标

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预处理腔:衬底旋转、倾斜(3D);干泵+ 分子泵; 真空度10-8 T

 

蒸发镀膜腔:电子枪6-15KW;

样品台:可加载4英寸衬底;

               衬底可加热到800℃

               衬底旋转、倾斜,

               倾斜精度和重复性优于0.1°(可升级)

真空泵系统:干泵 + 低温泵

                       真空度10-10T或10-11T

膜厚控制仪:频率分辨率10-4Hz或更高;

                      速率分辨率10-3nm/s;

                      厚度分辨率10-2nm

残余气体分析仪

反应蒸镀:氧气气路+MFC 

 

氧化腔体:静态/动态氧化

                  臭氧发生器/原子氧发生源/辉光放电;

                  卤素灯加热至zei高200℃

                   残余气体分析仪

分子泵 + 干泵真空度<10-8 T

 

 

全自动软件包,支持半自动和手动模式,支持远程网络操作和维护。

 

典型用户:耶鲁大学、日本NTT、中科院物理所、中科大、南大、南方科技大学

 

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