HTX基质升华仪

HTX基质升华仪技术特点

参考成交价格: 50~80万元[人民币]
技术特点

【技术特点】-- HTX基质升华仪

上市时间:2018年3月

在真空腔内,利用一个加热板升华底部的基质,然后利用一个冷却板将基质沉积到样品表面。所有这个过程发生在基质的三相点以下,因此没有涉及液态物质,从而减少了移位效应。

创新特色主要总结为以下几点:

1,分辨率提升:相较于市场大多数喷涂设备采用喷雾基质与样品结晶的方法原理,创新设计为液态直接升华为气态后冷却沉积的覆盖原理,可以优于市场上大部分产品微米级的结晶尺寸,创新性的实现纳米级结晶尺寸,从而使分辨率显著提升;

2,zei小的移位效应:相较于传统方法基质喷涂过程,跳过液态直接升华为气态,样品的更多空间信息被完整保留,避免了液体流动性带来的移位效应,实现了zei小程度的移位效应;

3,高效率:通过加热升华到冷却沉积的步骤,一次处理即可完成基质覆盖;操作快速、简单,一步到位,真正实现高效率的实验步骤。


一、产品设计原理:

在真空腔内,利用一个加热板升华底部的基质,然后利用一个冷却板将基质沉积到样品表面。所有这个过程发生在基质的三相点以下,因此没有涉及液态物质,从而减少了移位效应。


二、产品技术优势:

可以设定时间控制升华步骤;大部分基质都可以在180s内完成升华过程;适用于DHB, CHCA, SA, DAN, AA, Norhamane等基质;分辨率:升华能够保证纳米级的zei小结晶尺寸;zei小的移位效应:基质喷涂过程中,跳过液态直接升华为气态,样品的更多空间信息被完整保留;高效:一次处理即可完成基质沉积。


三、产品梗概:

快速、简单、重复性好、移位效应小



【技术特点对用户带来的好处】-- HTX基质升华仪


【典型应用举例】-- HTX基质升华仪


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