用于生长1D/2D 纳米材料和异质结构的 CVD/PECVD 工具。Nanofab 通过原位催化剂活化和严格的工艺控制, 实现了纳米材料的高性能增长。
出色的均匀性, 可在高达1200°C 的灵活温度下使用
700°C、800°C 或1200°C 表的选项
样品尺寸高达200毫米
真空负载锁. 快速样品交换
基于淋浴头的均匀前体输送冷墙设计
可选的液体固体源输送系统, 用于 MoS2,MoSe2 和其它 TMDCs 的生长