焦长

200 mm

孔径

f/4.2

刻线密度

1200 gr/mm

光学镀膜

针对121nm优化的MgF2膜

偏转角

64°

色散

100nm处3.6 nm/mm

驱动

高速蜗轮驱动

zei小步进

0.06 nm

速度

400 nm/s

精度

+/- 0.2 nm或+/-0.06 nm (*)

可重复性

+/-0.06 nm

分辨率

优于0.5 nm (**)

高真空

10^-5 mbar (***)

真空泵法兰

DN40 KF

入射/出射接口

测微狭缝(10 um 至 2 mm)

入射/出射法兰

DN25 KF

电脑接口

USB2.0

可选项

超高真空

10^-9 mbar

狭缝高度调节器

2, 4, 6 mm

(*)使用我们固件中的软件驱动矫正可以提高单色仪的精度

(**)使用宽10微米，高2mm的狭缝在121nm处测量

(***)H20-UVL不含真空泵和真空计