【技术特点】-- Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发镀膜仪

结合潘宁规和皮拉尼规的使用，可以使易被氧化的金属形成超小尺寸的颗粒，以实现高分辨率成像。高真空腔室也可以将氮气，氧气和水完全除去，避免在溅射过程中因化学反应导致杂质和缺陷形成。较低的溅射速率还可获得高纯度和高密度的无定型碳膜。

【技术特点对用户带来的好处】-- Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发镀膜仪

【典型应用举例】-- Q150V Plus超高真空离子溅射/热蒸发镀膜仪