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Quantum Design 公司近日推出新款高温光学浮区法单晶炉,这款高性能单晶炉采用镀金双面镜（避免四镜加热带来的多温区点）、高反射曲面设计，zei高温度可达2100-2200摄氏度,系统采用高效冷却节能设计（不需要额外冷却系统），稳定的电源输出保证了灯丝的恒定加热功率. …
技术参数： ► 方便轻巧，独立支撑设计 ► 镀金双面高效反射镜，避免多温区加热 ► 2150°高温区 ► 稳定的电源 ► 无需水冷循环冷却 ► 灯丝采用标准现货供应 | 生长晶体： ► 高温超导体 ► 介电和磁性材料 ► 金属间化合物 ► 半导体/光子晶体/宝石 |
光学浮区法（垂直区熔法）也可以说是一种垂直的区熔法。在生长装置中，在生长的晶体和多晶棒之间有一段靠光学聚焦加热的熔区，该熔区有表面张力所支持。熔区自上而下或自下而上移动，以完成结晶过程。
浮区法的主要优点是不需要坩埚，也由于加热不受坩埚熔点限制，可以生长熔点极高材料。生长出的晶体沿轴向有较小的组分不均匀性，在生长过程中容易观察等。浮区法晶体生长过程中，熔区的稳定是靠表面张力与重力的平衡来保持，因此，材料要有较大的表面张力和较小的熔态密度。浮区法对加热技术和机械传动装置的要求都比较严格。
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技术优势：
参考成交价格：
