柱后衍生冷却系统采用了先进的半导体制冷技术,高精度的温控仪,可以将高温度的反应液降至0-室温,任意可调。
控温精度±0.3℃
与柱后衍生反应系统可以一体化设计,可以分体设计
可以单独面板按键控温设定,也可电脑温控设定、记录。