【技术特点】-- 样品真空脱气站MD-200

设备简介
对于样品的比表面积及孔径的测试，由于多孔材料自身吸附性、保存和使用环境的影响，样品在长期或短时间暴露在空气中都会出现被杂质气体、水分等物质的污染，从而影响比表面积及孔径的测试结果。
为解决样品自身吸附性能和使用存放环境带来的问题，MD-200全自动样品前处理器提供了完善的解决办法，仪器通过真空抽离，升温脱气、脱水，注气保护等方式，使样品达到测试要求。
产品优势
与集成在比表面积及孔径设备上的样品脱气站相比，独立的MD-200全自动样品前处理器具备如下特点：
① 具备独立的真空系统和气路系统
② 漏气率低、气路污染问题容易处理
③ 全自动控制

技术参数
1.控温范围：室温～450℃
2.控温精度：0.01℃
3.温度控制系统：日本岛电
4.处理样品数量：3个（ 可扩展至6个）
5.真空度：7X10-2Pa
6.气体保护系统：氮气

【技术特点对用户带来的好处】-- 样品真空脱气站MD-200

【典型应用举例】-- 样品真空脱气站MD-200