标准配置

　※　NLP2000 系统主机，光学部分，控制器

　※　M-型多探针阵列。储液池，基底板

　※　快速启动说明，用户操作手册，CD

　※　一年保修，配件和人力

　※　环境控制腔

　※　整合的隔震台

　※　延迟的有限质保，1年

大区域、全自动、精确的点印

除了一个大的40mm × 40mm XY平台之外，NLP 2000系统包括基本培训之后用户快速点印大的表面的所需要的所有软硬件。NLP 2000 配置的3个压电驱动的线性位移台（XYZ）和2个角位台 Goniometer Stage（Tx和Ty）确保了大区域精确快速点印的稳定性。全自动的调平控制系统，标准的点印规则，以及软件脚本处理使NLP 2000系统可以简单、自动、可控的完成长时间点印。

微结构的功能化

通过使用NLP 2000系统的高分辨率平台，亚微米光学分辨率和样品点印界面，科学家可以简单方便的功能化传感器，阵列传感器，微接触印刷印章，微流体设备，或者其他预装配的微结构。

可控地点印环境

为了全面的监控和控制点印过程，NLP 2000 系统配置了高分辨率的光学显微镜和环境控制腔，以及隔震台。整合的环境控制腔可以是用户控制和记录温度，湿度和其他参数，用于实时或者后续的分析和校准。此外，NLP 2000 还可以兼容市场上的主动和被动的各种防震台。

点印的材料和基底：NLP 2000 系统可以点印和成像多种分子材料和液体到不同的基底材料，黏度范围可以从1-20000 cP。

点印的材料：

※　蛋白质、核酸、抗原、脂质体、纳米颗粒、聚乙二醇、UV-固化的多聚体、热-固化的多聚体、甘油、硅烷

兼容的基底：

※　硅、二氧化硅、硅烷化表面、氨基活化的玻片、金属、PDMS、水凝胶、聚苯乙烯、催化剂、硫醇

Top-Down Lithography （自上而下刻蚀）

Top-down DPN技术是快速进行模型结构设计的理想工具，适用于衍射光栅、等离子特征、任意固态图案（包括光掩模）。先利用DPN系统将抗刻蚀的材料转移到预定的基底表面，点印尺寸从50nm到2um，随后将基底浸入到腐蚀液中去除点印图案以外的所有区域的材料，最终点印的材料就突出于表面而形成所需图案。

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