输入电源

• 220VAC 50/60Hz, 单相

• 800W (包括真空泵）

等离子源

一个300W，13.5MHz的射频电源安装在移动柜内

(点击图片查看详细资料）

磁控溅射头

• 一个 2英寸磁控溅射头（带有水冷夹层），采用快速接头与真空腔体相连接

• 靶材尺寸: 直径为50mm,最大厚度6.35mm

• 一个快速挡板安装在法兰上（手动操作，见图左3）

• 溅射头所需冷却水：流速10L/min（仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机）

• 同时可选配1英寸溅射头
  

真空腔体

• 真空腔体：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高纯石英制作

• 密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作，采用硅胶密封圈密封

• 一个不锈钢网罩住整个石英腔体，以屏蔽等离子体

• 真空度：10-3 Torr （采用双极旋片真空泵）

• 10-5 torr （采涡旋分子泵）

载样台

• 载样台可旋转（为了制膜更加均匀）并可加热

• 载样台尺寸：直径50mm （最大可放置2英寸的基片）

• 旋转速度：1 - 20 rpm

• 样品的最高加热温度为700℃，(短期使用，恒温不超过1小时)，长期使用温度500℃

• 控温精度+/- 10℃

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