超薄Si片_ 参数_指标_优点_优势

参数指标

产品名称：	超薄Si片
产品简介：	化学符号为Si,主要用途有：制作半导体器件、红外光学器件及太阳能电池衬底等材料。
产品参数：	掺杂物质掺B 掺P 类型 P N 电阻率Ω.cm 10-3 ~ 40 10-3 ~ 40 EPD(cm-2 ) ≤100 ≤100 氧含量( /cm3 ) ≤1.8 x1018 ≤1.8 x1018 碳含量( /cm3 ) ≤5x1016 ≤5x101
常规尺寸：	晶体方向： <111> ； <100> ； <110> ± 0.5° 或特殊的方向常规尺寸：dia2“x0.1mm、 dia2“x0.2 mm；尺寸公差：dia2“直径公差±0.4mm；厚度公差±25um；表面粗糙度：Ra<10A 同时可提供热氧化SiO2层的Si片；Si+SiO2+Ti+Pt的基!欢迎您的咨询！
备注：	1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装