德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备技术特点

【技术特点】-- 德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备

该PECVD系统可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。

【技术特点对用户带来的好处】-- 德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备

【典型应用举例】-- 德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备