紫外曝光机技术特点

【技术特点】-- 紫外曝光机

这款紫外曝光机非常适合对紫外光敏感层的处理，是理想的紫外掩曝光机系统。

应用：紫外曝光机适合光学，生物，微纳科技，光刻等领域需要1-2掩膜的应用。

紫外掩曝光机特点

1)完美的单色曝光，曝光带宽小于10nm;

2)冷紫外曝光，衬底环境温度实时控制，从而实现均匀曝光，消除热效应；

3）超强的功率密度

4） 紫外LED寿命更长，高达10000小时；

5）方便用户使用的触摸屏配置；

6） 不需要预热；

7）计算机控制紫外光源强度调节；

8）自动晶圆装载和卸载功能；

9）超低能耗；

【技术特点对用户带来的好处】-- 紫外曝光机

【典型应用举例】-- 紫外曝光机