仪器简介:
应用: ◆蚀刻-半导体-砷化镓等 ◆蚀刻-平板显示 ◆蚀刻-微机电系统 ◆化学气相沉积 ◆去光阻 ◆化学机械研磨
主要特点:
◆等离子诊断 ◆缺陷检测 ◆200-800纳米 ◆制程监控 ◆符合RoHS要求 ◆科研级CCD ◆体积小 ◆软件功能强大 ◆可独立操作